顶立科技立式化学气相沉积炉(沉积炭)
概述:立式化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H8等)为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理
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立式化学气相沉积炉(沉积炭)技术特征
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根据炉膛尺寸与结构设置温区,温度均匀性好;
采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;
采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;
对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效的处理
立式化学气相沉积炉(沉积炭)产品规格
参数\型号 | VCVD-0305-C | VCVD-0608-C | VCVD-0812-C | VCVD-1015-C | VCVD-1120-C | VCVD-1520-C | HCVD-151530-C |
工作区尺寸D×H(mm) | Φ300×500 | Φ600×800 | Φ800×1200 | Φ1000×1500 | Φ1500×2000 | Φ1500×2000 | Φ2600×3200 |
最高温度(℃) | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 | 1500 |
温度均匀性(℃) | ±5 | ±5 | ±7.5 | ±7.5 | ±10 | ±10 | ±15 |
极限真空度(Pa) | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 | 50 |
压升率(Pa/h) | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 | 0.67 |
以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。
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