顶立科技立式化学气相沉积炉(沉积炭) 

概述:立式化学气相沉积炉(沉积炭)可用于以碳氢气体(如C3H8等)为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理
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2022-11-07 16:43:11 点击64794次
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全国
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18874256050
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描述:4.0  产品质量:4.0
物流:4.0  服务态度:4.0
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立式化学气相沉积炉(沉积炭)技术特征

根据炉膛尺寸与结构设置温区,温度均匀性好;

采用特殊结构沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

采用多通道沉积气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效的处理


立式化学气相沉积炉(沉积炭)产品规格

参数\型号 VCVD-0305-C VCVD-0608-C VCVD-0812-C VCVD-1015-C VCVD-1120-C VCVD-1520-C HCVD-151530-C
工作区尺寸D×H(mm) Φ300×500 Φ600×800 Φ800×1200 Φ1000×1500 Φ1500×2000 Φ1500×2000 Φ2600×3200
最高温度(℃) 1500 1500 1500 1500 1500 1500 1500
温度均匀性(℃) ±5 ±5 ±7.5 ±7.5 ±10 ±10 ±15
极限真空度(Pa) 50 50 50 50 50 50 50
压升率(Pa/h) 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67 0.67

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。


[本信息来自于今日推荐网]