铝合金靶材厂家直销
概述:适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的
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铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铝经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铝材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。
铝靶材物理性质:
元素符号 |
Al靶材 |
元素符号 |
Al靶材 |
相对分子质量 |
26.98 |
蒸发潜热 |
11.4 |
原子体积 |
9.996*10-6 |
蒸汽压 |
660/10-8-10-9 |
晶型 |
Fcc面心立方 |
电导率 |
37.67 |
堆积密度 |
74% |
电阻系数 |
+0.115 |
配位数 |
12 |
吸收光谱 |
0.20*10-24 |
晶格能 |
200*10-7 |
泊松比 |
0.35 |
密度 |
2.7 |
可压缩性 |
13.3mm2/MN |
弹性模量 |
66.6Gpa |
熔点 |
660.2 |
剪切模量 |
25.5Gpa |
沸点 |
约2500 |
常用纯度 |
99.9%3N,99.99%4N,99.999%5N,99.9999%6N |
铝靶用途:适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的价格较低,所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。
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- 铜靶材用途:适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶...
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