铝合金靶材厂家直销 

概述:适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的
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铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是高纯铝经过系列加工后的产品,具有特定的尺寸和形状高纯铝材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。

铝靶材物理性质:

元素符号

Al靶材

元素符号

Al靶材

相对分子质量

26.98

蒸发潜热

11.4

原子体积

9.996*10-6

蒸汽压

660/10-8-10-9

晶型

Fcc面心立方

电导率

37.67

堆积密度

74%

电阻系数

+0.115

配位数

12

吸收光谱

0.20*10-24

晶格能

200*10-7

泊松比

0.35

密度

2.7

可压缩性

13.3mm2/MN

弹性模量

66.6Gpa

熔点

660.2

剪切模量

25.5Gpa

沸点

约2500

常用纯度

99.9%3N,99.99%4N,99.999%5N,99.9999%6N

铝靶用途:适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的价格较低,所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。


[本信息来自于今日推荐网]
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