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水基清洗IGBT案例-合明科技-半导体封装清洗-中性水基清洗剂 

水基清洗IGBT案例-合明科技-半导体封装清洗-中性水基清洗剂

现今电子产品清洗追求清洗过程中生产**、表面无损伤、节省溶剂、工作场地和人工成本；超声波清洗就有清洗速度、工效高，大大降低清洗作业的人力劳动强度的特点，特别是大批量的小制件(或元器件)，尤其适用于超声波清洗，超声波清洗机的应用便于清洗工艺的实施及工艺过程的连续自动化，设备体积小，重量轻，功率可调，且可频率跟踪，操作灵活方面等优点已被广泛应用。但针对超声波清洗过程中的变量该如何选择和控制呢?
选择超声波的优点
 在良好的清洗剂搭配下*声清洗效果好，清洁度高且全部工件清洁度一致，*声清洗速度，提高生产效率，不须人手接触清洗液，安全可靠。 对小间隙、狭缝、细微隐蔽处、深孔的产品亦可清洗干净。通过超声波来清洗产品可以有效降低环境污染，同时减少有毒溶剂对员工的损害，而且的超声波清洗设备内置有一套的循环过滤系统，使用过的清洗溶剂能够通过过滤系统进性过滤后达到反复使用的目的，因此能够充分节约水资源和清洗溶剂，能够降低企业的清洗成本，同时还能够提高企业在环保方面的形象。

目前，大量的半导体封装仍在采用传统的正溴丙烷等溶剂清洗清洗，随着对环保的管控和对产品可靠性的要求不断提高，原有的传统溶剂清洗已不能满足半导体封装清洗。对此，合明提出新型的半导体封装制程清洗方案。
合明半水基清洗工艺解决方案，可在清洗焊接残留物和污垢的同时去除金属界面高温氧化膜，保障下一道工序的金属界面结合强度；对芯片半导体基材、金属材料拥有优良的材料兼容性，清洗后易于用水漂洗干净。

关于清洗液量和清洗工件的位置的确定
一般清洗液液面**振头表面10㎝左右为佳，这样清洗时产品清洗效果会*好，清洁度高且全部工件清洁度一致；使用过程中选择清洗物品位置应放在波幅处，能充分受力产品清洗*。

可以使用各种溶剂清洗松香和树脂助焊剂，如或水性和半水性溶剂。当用水溶剂清洗时，需要添加剂。如果要清洗免洗助焊剂（有时需要），也可以用这些溶剂清洗，但有时可能需要配方，可以用含添加剂和无添加剂的水清洗水溶性助焊剂。
深圳合明科技 针对电子制程精密焊后清洗的不同要求，合明科技在水基清洗方面有比较丰富的经验，对于有着低表面张力、低离子残留、配合不同清洗工艺使用的情况，自主开发了较为完整的水基系列产品，精细化对应涵盖从半导体封测到PCBA组件终端，包括有水基和半水基清洗剂，碱性和中性的水基清洗剂等。具体表现在，在同等的清洗力的情况下，合明科技的兼容性较佳，兼容的材料*为广泛；在同等的兼容性下，合明科技的清洗剂清洗的锡膏种类更多（测试过的锡膏品种有ALPHA、IC、INDIUM、SUPER-FLEX、URA、TONGFANG、JISSYU、HANDA、OFT、WTO等；测试过的焊料合金包括SAC305、SAC307、6337、925等不同成分），清洗速度，离子残留低、干净度*好。