半导体清洗超纯水设备，苏州纳米材料超纯水设备 

概述：苏州伟志专业生产纯水设备，纯化水设备，软化水设备，超纯水设备，各种污水处理回用设备，洗浴废水处理设备,电镀废水回用设备，欢迎来电询盘订做
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刷新时间：
2020-12-23 17:07:51 点击44947次
分类：
能源 > 节能设备 > 节水设备
标签：
电子工业 艺预处理
服务区域：
全国
价格：
  • 98000 元/套
联系电话：
18606205762 赵渊珍
QQ：
1579724036
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半导体清洗超纯水设备，苏州纳米材料超纯水设备


半导体清洗超纯水设备水质标准：

 

   半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

 

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

 

半导体清洗超纯水设备制备工艺：

 

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺) 
 

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥16MΩ.CM）(最新工艺)

3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→第二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(最新工艺) 

[本信息来自于今日推荐网]