真空镀膜系统 

概述：普诺克真空系统的结构是影响真空系统密封性和系统漏气率的关键，真空系统的结构合理与否，将直接影响系统的密封性和系统的漏气率。
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真空镀膜系统

降低真空系统漏气率的措施：

1.真空系统的结构

真空系统的结构是影响真空系统密封性和系统漏气率的关键，真空系统的结构合理与否，将直接影响系统的密封性和系统的漏气率。

（1）尽可能地避免出现小曲率半径的死角，要光滑过渡查刹于打麈抛光、清洗清扫。

（2）抽空管道、送气管道等与真空室相连接的管道，采用圆弧过渡，使气路畅通无阻，但要考虑清洗清扫的方便性。

（3）认真设计真空室内各种连接件的结构，使气路畅通，避免气路堵塞。

（4）打磨抛光真空系统内表面，表面越光亮就越不易气体吸附，越容易获得真空。

（5）尽可能减小真空室的体积，缩短管路系统。

2.密封形式的选择

密封形式可根据 所需真空度的高低及实际工作需要选择密封形式，对于人工晶体生长设备，一般需要的真空度在lO-3Pa以下，因此，无需采用金属密封。以TDR--70型单晶炉为例，我们选择磁性流体密封作为旋转动密封，选择高精度大伸缩量的焊接波纹管进行移动密封，小直径轴的旋转密封选用“O”型密封圈或威尔逊密封，各种静密封则采用“0”型密封圈密封形式，直径压缩比为25％。

真空镀膜系统

真空系统的产品特性：

1.真空度高、性能稳定、寿命长

2.流量：4-1300m3/hr（单台泵）

3.真空使用范围：0.5-500mbar（绝对压力）

4.无需接入水源

5.结构紧凑，占地面积少

6.操作简单维护方便，噪音少

7.可实现多台机组PLC联控

8.可连接GDMS系统

9.符合欧洲CE EN737-3标准

真空系统性能特点：

该装置自第一次启动后，全部运行过程可以实现全自动控制。其工作中，真空系统内各处的真空度始终在其允许范围内上下波动，其波动范围可根据用户要求进行调整。第一台启动达不到真空时第二台启动至达到设定的真空值当达到后第一台停再第二台停循环工作，该装置在无人操作情况下对系统进行自动控制，在停电时可自动封闭真空系统。同时控制箱可以保护真空泵马达过载及短路。

真空镀膜系统

普诺克真空系统产品图