光学探针双模式轮廓仪/三维形貌仪 

概述: NANOMAP D光学探针双模式轮廓仪/三维形貌仪 美国AEP Technology公司主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形

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光学探针双模式轮廓仪/三维形貌仪

NANOMAP D光学探针双模式轮廓仪/三维形貌仪
美国AEP Technology公司
主要从事半导体检测设备, MEMS检测设备, 光学检测设备的生产制造,是表面测量解决方案行业的领先供应者,专门致力于材料表面形貌测量与检测。
NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪集白光干涉非接触测量法和大面积SPM扫描探针接触式高精度扫描成像于一个测量平台。是目前功能最全面,技术最先进的表面三维轮廓测量显微镜。既有高精密度和准确度的局部(Local)SPM扫描,又具备大尺度和高测量速度;既可用来获得样品表面垂直分辨率高达0.05nm的三维形态和形貌,又可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸,诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等,并计算关键部位的面积和体积等参数。样件无须专门处理,在高速扫描状态下测量轮廓范围可以从1nm 到10mm。由于采用独特的缝合技术,无论怎样的表面形态、粗糙程度以及样品尺寸,一组m×n图像可以被缝合放大任何倍率,在高分辨率下创造一个大的视场,并获得所有的被测参数。该仪器的应用领域覆盖了薄膜/涂层、光学,工业轧钢和铝、纸、聚合物、生物材料、陶瓷、磁介质和半导体等几乎所有的材料领域。
随着微细加工技术的不断进步,微电路、微光学元件、微机械以及其它各种微结构不断出现,对微结构表面形貌测量系统的需求越发迫切, NanoMap-D所具备的双模式组合,结合了白光干涉非接触测量及SPM扫描探针高精度扫描成像于一体,克服了光学测量及扫描探针接触式的局限性,并具有操作方便等优点成功地保证了其在半导体器件,光学加工以及MEMS/MOEMS技术以及材料分析领域的领先地位。
NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪经过广泛严格的检测,确保其作为测量仪器的标准性和权威性,并保证设备的各种功能完好,各个部件发挥出色。用NIST标准可以方便快捷地校验系统的精度,所校准用的标样为获得美国国家标准局( NIST) 的计量单位的认可。
NanoMap-D配备的软件提供了二维分析、三维分析、表面纹理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、体积、角度计算、曲率计算、模拟一维分析、数据输出、数据自动动态存储、自定义数据显示格式等。综合绘图软件可以采集、分析、处理和可视化数据。表面统计的计算包括峰值和谷值分析。基于傅立叶变换的空间过滤工具使得高通、低通、通频带和带阻能滤波器变的容易。多项式配置、数据配置、扫描、屏蔽和插值。交互缩放。X-Y和线段剖面。三维线路、混合和固定绘图。用于阶越高度测量的地区差异绘图。
NANOMAP D光学双模式轮廓仪/三维形貌仪主要功能及应用:

  • 多种测量功能

精确定量的面积(空隙率,缺陷密度,磨损轮廓截面积等)、体积(孔深,点蚀,图案化表面,材料表面磨损体积以及球状和环状工件表面磨损体积等)、台阶高度、线与面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半径以及其它几何参数等测量数据。

  • /厚膜材料

薄/厚膜沉积后测量其表面粗糙度和台阶高度,表面结构形貌, 例如太阳能电池产品的银导电胶线

  • 蚀刻沟槽深度, 光刻胶/软膜

亚微米针尖半径选件和埃级别高度灵敏度结合,可测量沟槽深度形貌。

  • 材料表面粗糙度、波纹度和台阶高度特性

分析软件可轻易计算40多种的表面参数,包括表面粗糙度和波纹度。计算涵盖二维或三维扫描模式。

  • 表面光滑度和曲率

可从测量结果中计算曲率或区域曲率

  • 薄膜二维应力

测量薄膜应力,能帮助优化工艺,防止破裂和黏附问题

  • 表面结构和尺寸分析

无论是二维面积中的坡度和光滑度,波纹度和粗糙度,还是三维体积中的峰值数分布和承载比,本仪器都提供相应的多功能的计算分析方法。

  • 缺陷分析和评价

先进的功能性检测表面特征,表面特征可由用户自定义。一旦检测到甚至细微特征,能在扫描的中心被定位和居中,从而优化缺陷评价和分析。



























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          _____别看了,带尾巴可以防止无语的时候不够十五字。十年生死两茫茫,喜羊羊,灰太狼。舒克贝塔,蓝猫话凄凉。纵使相逢应不识,圣斗士,美猴王。
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