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电容析去离子系统 

MCDI技术革新

1、       现有电容吸附法没有离子膜，水流直接冲刷碳电极，碳颗粒掉落的情况会持续发生；而MCDI由于膜电极中离子膜的遮挡和包覆，水流不直接冲刷碳电极，而是从离子膜之间流过，加上我们特殊的碳电极加工方法，长期使用造成碳电极冲刷掉落的情况不会出现。

2、       当反接电极时，因为离子隔膜的作用，使得从电极上脱附的离子，只能回到溶液或水中，无法吸附到对面电极上，从而使电极得到充分的清洗，再开始下一次吸附，提高了离子去除率和装置的运行效率；传统的电容吸附去离子技术由于没有离子膜隔离，导致脱附过程中离子再次吸附到对面极板上，严重影响脱附效果，导致处理效率降低。

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