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东营集成电路布图设计登记流程、需要时间 

东营集成电路布图设计登记流程、需要时间

根据《集成电路布图设计保护条例》及《集成电路布图设计保护条例实施细则》的有关规定，相关权利人需要向国家知识产权局提出登记申请，经审查登记后方可享有集成电路布图设计专有权。

一、登记流程

1. 以公司名义登记提供盖章的营业执照副本复印件2份，以个人名义登记提供身份证正反面复印件2份；

2. 集成电路布图设计登记申请表（一式两份）；

3. 集成电路布图设计的复制件或者图样，并附上简要说明；

4. 布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该布图设计的集成电路样品。

5. 国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

　　布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。

二、所需时间

当申请文件不存在形式缺陷时，自申请人提交文件后大约一个半月收到受理通知书，自申请人缴费成功后大约一个半月收到登记证书，整个周期约为三个月。

三、登记流程

申请人提交的申请文件，经国家知识产权局审查后，未发现形式缺陷的，审查员发出受理通知书和缴费通知书；存在形式缺陷的，审查员发出受理通知书和补正通知书，申请人应按补正通知书上的要求，在规定期限内提交补正材料，如果经补正已克服全部缺陷，则审查员发出缴费通知书。