转让日本光弛2350镀膜机
概述:2.用途:此真空镀膜机是镀制防污膜(AS膜)及防反射膜+防污膜(AF+AS膜)型光学镀膜机,应用于镀膜机等所配的触摸屏。真空中制备膜层可防止膜料和镀件表面的污染,消除空间碰撞,提高镀层的致密性和可制备
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1.标配参数:单枪、 离子源、 晶控、23公分的射频源、 热阻蒸、 顶部侧部加热、 两个扩散泵、一个螺丝泵、一个机械泵
2.特征:磁密封驱动的基板旋转式可得到稳定和均匀的膜厚分布
3.配备:配备RF离子源以提高膜的耐摩擦性;用于防污膜(AS 膜)批量生产;防污膜(AS 膜)批量生产。
4.性能:达到压强7.0E-5Pa以下
5.配置参数:
真空室 Ф2350mm×H 1400mm
基板架 Ф2200 mm
基板架转速 20rpm
晶振式膜厚计 6点式⽔晶传感器
蒸发源 电⼦枪1台,热阻蒸
达到压强 7.0E-5Pa 以下
排强时间 15分以下(压强〜2.0×10-3 Pa)
6.工作条件:
设备尺寸 约6300mm (W)×9000mm (D) ×4000mm (H)
电源 3相,200v,50/60Hz,约80KVA
水流量 220升/分以上
空气压力 0.5-0.7mpa
重量 约12000kg

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