氧化钇氟氧化钇 YF3 YOF Y5O4F7 Y2O3

概述：氧化钇氟氧化钇 YOF Y5O4F7 YF3 Y2O3
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2022-09-30 11:02:23 点击21435次

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半导体刻蚀设备零部件再生

半导体刻蚀设备零部件清洗

半导体刻蚀设备零部件喷涂

作为半导体制造设备内部的保护性涂层，半导体干蚀设备内部暴于高反应性卤素或氧系等离子体。

若非耐电浆材料元件(如，石英玻璃、氧化铝和阳极化的铝)以原本状态使用，则会发生表面腐蚀而伴随着生成粒子，其造成半导体上之微观电路的缺陷。

因此，于半导体制造设备之待外露的表面提供用以赋予抵御等离子体的耐蚀性和保护设备之元件的保护性涂层。

此保护性涂层之一是对于种类繁多的等离子体展现耐蚀性的氟氧化钇。