桌面型离子溅射 磁控溅射 SEM扫描电镜 电极制样 真空镀膜机仪 

概述： 仪器简介： HM-ETD-2000C 溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，分为离子溅射和磁控溅射两种。离子溅射离子密度低，镀速较慢，能量分散，适合SEM样品喷金，镀铂；磁控溅射离子密度高，镀
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刷新时间：
2019-08-24 20:11:38 点击20462次
分类：
行业设备 > 涂装设备 > 电镀设备
服务区域：
全国
价格：
  • 24000 元
联系电话：
18551070880 黄寺贵
QQ：
2264739726
信用：4.0  隐性收费：4.0
描述：4.0  产品质量：4.0
物流：4.0  服务态度：4.0
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仪器简介：

HM-ETD-2000C 溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，分为离子溅射和磁控溅射两种。离子溅射离子密度低，镀速较慢，能量分散，适合SEM样品喷金，镀铂；磁控溅射离子密度高，镀速较快，能量集中，适合电极样品的制备，如金、铂、银、铜、钛等。HM-ETD-2000C溅射仪简单、可靠、运行成本低。满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和各种导体材料实验电极制作。

 

技术参数：

配置参数如下： 
- 仪器尺寸 ： 400mm×300mm×400mm（L×W×H） 
- 真空样品室： 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H） 
- 靶（上部电极）： 50mm×0.1mm（D×H） 

- 磁控靶（上部电极）： 50mm×0.1mm（D×H）
- 样品台： 50mm (D) 
- 操作真空： 4×10-1mbar至2×10-2mbar 
- 工作电压： 0-1600V (DC)可调 
- 溅射电流： 0-50mA 
- 溅射定时： 1-9999S 
- 真空泵： 4升两级机械旋转泵（极限真空2×10-2mbar）

 

具体价格请联系客服或致电本公司，量大优惠

黄经理

联系电话：18551070880


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